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实验型蒸镀设备
根据钙钛矿工艺体系定制化设计，可进行共蒸或顺蒸实验需求。
点源蒸镀设备
单腔体设计 ，占地面积小，操作时间短；配置多组蒸发源，可实现共蒸。
玻璃/硅片清洗设备
集成多项标准清洗工艺，并采用后置前节水利用方式，有效去除颗粒物、油污，改善亲水角。
时间型/空间型ALD设备
低温沉膜，膜层厚度精度可控；膜层致密性好无孔洞，优秀的台阶覆盖率。
涂布一体机(箱式/隧道式)
涂布机配置高精度运动平台、多段式涂布控制方式、液路系统自动清洁与干燥、多重安全防护，整体氛围可控。
喷墨打印设备
采用高精度喷头、运动系统与智能墨滴控制技术，实现高分辨率喷印可控图形。
多功能镀膜设备
集成热蒸镀(VED)、磁控溅射(PVD)、反应式等离子(RPD)镀膜，以产业化标准设计研发机台。
管式氧化铝原子层淀积炉（边缘钝化）
可满足TOPCon 高效电池切片后的边缘钝化处理；大产能设计，兼容多分片升级，可满足客户定制化需求。
立式低压淀积炉
兼容性强，最大可兼容硅片尺寸：230mm;大产能设计，满足规模化量产需求。
TBC太阳能电池智能生产线
采用正面无栅线设计，消除光学遮挡，显著提升短路电流。
光罩清洗设备
正面Force down Brush、rinse，背面pellical氮气保护。
4腔单晶圆水平电镀工艺设备
90%部件本土化，本地软件团队，有独立的设计和专利。
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