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磁控溅射镀膜设备(PVD)
低温低损工艺、低阻高透工艺、高温工艺≥300℃；产品系列从研发设备至量产设备全面布局。
板式等离子体增强化学气相沉积设备
最小反射功率的快速启辉、均匀稳定大面积成膜；成熟稳定的多点馈入射频RF 技术、技术兼容性和产品升级。
板式透明导电薄膜沉积设备(RPD/PAR)
RPD具有无高能离子轰击衬底特点，能制备高少子迁移率的TCO。
量产型蒸镀设备
模块化设计，设备更加灵活。可根据需求快速调整产线的规模和配置。
实验型蒸镀设备
根据钙钛矿工艺体系定制化设计，可进行共蒸或顺蒸实验需求。
点源蒸镀设备
单腔体设计 ，占地面积小，操作时间短；配置多组蒸发源，可实现共蒸。
