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多功能薄膜沉积设备(SPE)
集成热蒸镀（VED）、磁控溅射(PVD)、反应式等离子(RPD) 镀膜。
全自动石墨舟装卸片机
设备模块化设计，内部相似结构零部件高度统一，便于备件管理。
全自动石英舟装卸片机
设备具有友好的人机界面和完善的检测报警系统，保证设备自动运行稳定，操作放心。
全自动硅片上/下料机
采用PLC控制，上/下片过程全自动完成；触摸屏菜单操作，简单明了。
激光优化烧结设备
产能：≥9600 片/小时，CT<0.75S（182mm硅片）；≥9000片/小时，CT<0.8S（210mm硅片）。
磁控溅射镀膜设备(PVD)
低损工艺、低温工艺、低阻&高透、高温工艺≥300 ℃；产品系列从研发设备至量产设备全面布局。
管式等离子体多晶硅淀积炉
隧穿氧化层、i-poly、D-poly 三合一同管完成，减少工艺环节，有效提升良率、降低碎片率。
管式低压硼扩散炉
成熟BBr3液态源、BCL3气态源控制与输送技术；配套相关专利技术。
管式扩散氧化退火炉
高方阻技术解决方案；配套相关专利技术，可适用于硼扩散工艺。
管式等离子体淀积炉
可靠电极接触，有效减少粉尘、降低高频报警频次；简单可靠自动上下舟机构，提升设备维护空间与便利。
管式低压淀积炉
低压与热壁工艺特性，成膜均匀性、致密性好；LPCVD工艺特性，基片密排对成膜速率影响小。
槽式碱抛光清洗设备
产能：600片/批， 14400片/小时（210硅片）；720片/批， 17280片/小时（182硅片）。
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