时间型/空间型ALD设备
时间型/空间型ALD设备
技术特点 Features
· 低温沉膜，膜层厚度精度可控。
· 膜层致密性好无孔洞，优秀的台阶覆盖率。
· 应用于晶硅电池、钙钛矿、HJT、HBC、微电子器件制造等行业。
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