多功能镀膜设备
多功能镀膜设备
技术特点 Features
· 集成热蒸镀(VED)、磁控溅射(PVD)、反应式等离子(RPD)镀膜，以产业化标准设计研发机台。
· 连续真空镀膜，减少基板装/卸及膜层暴露大气次数，有利于器件效率提升，设备占地面积需求缩小40%，设备成本降低30%。
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