反应式等离子体镀膜设备（RPD）
反应式等离子体镀膜设备（RPD）
技术特点 Features
· 低损伤、低温高迁高透工艺，最大幅宽2400mm。
· 产品系列从研发设备至量产设备全面布局；立式传送&卧式传送。
· 应用于钙钛矿、HJT、HBC光伏/面板显示/芯片/锂电池等行业。
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