捷佳伟创自主研发双面卷绕铜箔溅射镀膜设备成功下线

近日，捷佳伟创自主研发的双面卷绕铜箔溅射镀膜设备成功下线，为公司在复合集流体真空设备市场打开了新局面，同时也是公司在锂电真空专用设备领域取得的重大突破。

经过公司研发团队多方面技术攻关，首卷4.5μm复合铜箔成功出腔，双面铜箔溅射厚度30nm，方阻1.7Ω~2Ω，现30m/min的高线速已实现，远超市场普遍的5~12m/min走速。此款镀铜真空设备采用自主研发的卷绕控制系统，展平效果更佳，已稳定运行2万米，且未有断膜和褶皱的情形。同时，公司采用模块化的设计组合，创新性隔离闸阀设计，实现不破真空快速换卷，提高生产效率，实现复合铜箔生产的降本增效。

不同于传统的铜箔、铝箔，复合集流体因其高安全性、高能量密度、低成本等优势，在新能源汽车、储能和消费类电池应用等诸多应用场景下的替代需求优势显著，是近年来电池关键材料领域的重大创新，有望成为提升电池性能和降低成本的新一代关键材料。

面对新能源锂电行业复合集流体应用的巨大风口，捷佳伟创在真空镀膜技术方面厚积薄发，秉持“产品领先，装备先行”的发展理念，突破复合集流体产业化瓶颈，引领行业大踏步向前，为产业发展贡献力量！